Metrologia

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  • Publicado : 15 de diciembre de 2010
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Toward sub-20 nm hybrid nanofabrication
Using this method the Japanese found out that the process enables them to control the positions and sizes of the nanogap with full use of the resolutions ofEBL and MR. they made an experiment that prove it.
A lo largo de las últimas décadas, los micro electrónicos y las industrias de guardado de datos han sido capaces de hacer más pequeño el tamaño desus dispositivos y de sus métodos para hacer esos dispositivos. Ahora, los materiales y las herramientas de las técnicas de litografía tradicionalmente usadas para patrones micro electrónicos hanllegado a su límite técnico, es difícil controlar los patrones de tamaño de sub-20nm a escala debido a la proximidad del efecto y el gran marca del láser. Una más reciente estrategia nano litográfica, elmétodo de regla molecular (MR), muestra gran promesa, porque puede controlar muy precisamente el tamaño del espacio a nano escala.
El nuevo modelo que está siendo creado por los japoneses permite elcontrol de la nanotecnología sin dañarla. También te permite medir las propiedades eléctricas de nano estructuras.
Un equipo del Centro Internacional para Materiales Nano arquitectónicos ha fabricadoun sub20nm dispositivo de nano espacio en una posición al combinar el método MR con el método EBL.
Utilizando este método los japoneses descubrieron que el proceso les permite el control de lasposiciones y tamaños del nano espacio con el completo uso de la resolución del EBL y MR, ellos hicieron un experimento que lo demostró.
Es muy interesante este articulo porque creo que la nanotecnologíaes muy difícil de controlar ya que es muy pequeño el objeto que se está controlando y es cierto que a lo largo de las ultimas décadas hemos estado intentando hacer todo más pequeño pero tenía que haberalgún limite y cada vez será más difícil de pasarlo porque es tan pequeño que se tiene que crear algo que sea capaz de utilizar ese objeto tan pequeño y vamos a llegar al punto en el que algo sea...
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