Ósmosis inversa

LAS INDUSTRIAS FARMACEUTICAS Y DE SEMICONDUCTORES, USAN OSMOSIS INVERSA Y DESMINERALIZACION COMO TRATAMIENTO.
Las industrias farmacéuticas y de semiconductores se apoyan fuertemente en tecnología de punto de uso, incluyendo la ósmosis inversa y los desmineralizadores, para abastecer de agua ultrapura para el proceso de manufactura. Para ayudar a éstos clientes de la industria en el diseño desus sistemas, los profesionales de la industria del tratamiento de agua deben comprender las necesidades básicas de calidad de agua de este tipo de industrias y como se han desarrollado.
El agua ultrapura se juzga a través de diversos parámetros físicos y contaminantes claves, en los que algunos son medidos en rangos de partes por trillón. Los requerimientos de pureza varían de sitio en sitiode cliente a cliente el costo del tratamiento de agua aumenta cuando las necesidades de calidad de agua aumentan.
Algunas de las consideraciones de la calidad del agua ultrapura incluyen lo siguiente:

COMPUESTOS ORGANICOS TOTALES
(TOC). Las fuentes de TOC incluyen microorganismos, ácidos húmicos, productos de resina de intercambio iónico que se pierde y se descompone y algunosplásticos.
RESISTIVIDAD. El recíproco de la conductividad, la resistividad mide la contaminación iónica, y frecuentemente se mide en línea con un resistivímetro. La resistividad de un agua teóricamente pura es de 18.26 megaohms por centímetro 25°C.
Al aumentar la contaminación iónica la resistividad disminuye.
PARTICULAS. Éstas incluyen cualquier coloide o sustancia suspendida en el agua. Laindustria de semiconductores considera a las partículas extremadamente dañinas ya que se pueden depositar y causar algún defecto.
MICROORGANISMOS. Estos pueden vivir y crecer hasta en agua ultrapura aunque el flujo turbulento minimiza la contaminación por bacterias, el agua que esta cerca de la superficie de los tanques, tuberías y filtros pueden ser un medio de cultivo. Los nutrientes y lasbacterias pueden acumularse en las superficies y formar colonias; las bacterias pueden después emigrar para contaminar otras partes del sistema de agua ultrapura, que puede ser: difícil de Limpiar una vez que han sido contaminados.
SILICE. Ésta existe en estado disuelto y en estado de partícula en el agua, y puede entrar en el agua ultrapura desde la alimentación de agua cruda o de un flujo derecirculación después de contactar yacimientos de sílice. Los niveles de sílice pueden reducirse por medio de membranas de filtración y de resinas de intercambio aniónicas. Es muy dañina para los aparatos semiconductores ya que puede ocasionar aditamentos irregulares si se deposita en ellos. Esto es aparente durante el procedimiento térmico del sistema.
GASES DISUELTOS Estos son de preocupación másreciente en los sistemas de agua ultrapura. Entre los contaminantes más importantes está el oxigeno y el bióxido de carbono debido a que el oxigeno es un agente oxidante ayudara a oxidar contaminantes orgánicos a CO2 se necesita más trabajo para determinar los niveles de oxigeno que se necesitan para ayudar a remover orgánicos, y además minimizar la contaminación de oxígeno en el punto de uso.
Elagua que se usa en farmacéutica debe cumplir con las especificaciones de la Pharmacopeia (USP) que publica nuevos estándares para agua purificada y para agua inyectable (WFT) en 1995. La nueva USP 23 se enfoca en los contaminantes de mayor importancia en agua de grado farmacéutico como son:
Conductividad Con la USP 23, la medición de conductividad en línea se reemplazan las pruebas químicascomo las de sulfatos, cloruros, amoniaco, calcio y CO2. El nuevo estándar es de 1.3 microsiemens por centímetro.
Carbono orgánico total. Los instrumentos en línea de medición de TOC, proveen una medida de la contaminación orgánica y éstos reemplazan las pruebas de sustancias oxidables. El estándar se fijo en 500 partes por billón máximo.
Bacterias y pirógnos (sustancias productoras de...