Art04

Artículo Regular
www.rlmm.org

EFECTO DE LA CONCENTRACION DE ION CLORURO EN LA ESTRUCTURA DE
ELECTRODEPOSITOS DE COBRE
Juan Aragón M1., Juan Camus A.2*
1: Departamento de Ingeniería Metalúrgica, Universidad Arturo Prat. Iquique, Chile
2: Departamento de Química, Universidad de Playa Ancha. Valparaíso, Chile
* e-mail: jcamus@upla.cl

RESUMEN
El análisis metalográfico de los depósitos de cobreobtenidos en soluciones ácidas de sulfato de cobre, cuando se cambia
la concentración del cloruro, entre 20-50 mg/L, permite corroborar que el depósito de grano grueso de tipo “cristales que
reproducen la base” (RB) inicial, empieza a afinarse pasando a un crecimiento de textura orientada en el campo de tipo FT
a una estructura en forma de polvo o estructuras dispersas sin orientación, de tipo UD.Sobre los 50 mg/L de cloruro se
produce el efecto contrario, el tamaño de grano empieza a aumentar. Además, al adicionar guar entre 15 y 30 mg/L, se
observa que con 30 g/L de cloruro, mejora la calidad del depósito, la que se optimiza al aumentar la densidad de corriente
hasta 290 A/m2 y la temperatura hasta 55ºC.
Palabras Claves: Cobre, electrocristalización, cloruro, guar.

EFFECT OF THECONCENTRATION OF CHLORIDE ION IN THE STRUCTURE OF
ELECTRODEPOSITS OF COPPER
ABSTRACT
Metallography analysis of deposits of copper obtained from acidic solutions of copper sulphate, when changing the
concentration of chloride, between 20 - 50 mg/L, allows to corroborate that the deposit of coarse-grained of type "crystals
that reproduce the base" (RB) initial, begins to tune it to a growth of textureoriented in the field of type FT to the powder
structure or scattered structures without orientation, of type UD. Over the 50 mg/L of chloride is produced the opposite
effect, grain size began to increase. To add further guar between 15 and 30 mg/L, notes that with 30 g/L of chloride,
improves the quality of the deposit, which is optimized increasing current density up to 290 A/m2 and temperature to the55ºC.
Keywords: Copper, electrocristalyzation, chloride, guar,

Recibido: 16-09-2010 Revisado: 11-01-2011
Aceptado: 19-03-2011 Publicado: 24-03-2011

128

pISSN: 0255-6952 | eISSN: 2244-7113
Rev. LatinAm. Metal. Mat. 2011; 31 (2): 128-133

Artículo Regular
www.rlmm.org

Por otra parte, la goma guar, producto
comercializado bajo diferentes nombre de fantasía,
se ha usado ampliamente como aditivopara mejorar
la calidad del electrodepósito de cobre, en este
sentido O’Keefe y Hurst [5] han realizado un aporte
importante al investigar la influencia del antimonio,
iones cloruro y goma sobre la electrorefinación del
cobre. Wang et. al [6] investigaron el mecanismo de
adsorsión de la goma guar en la interfase sólidolíquido. Grageda [7], en su tesis doctoral modeló,
diseñó y desarrollóexperimentalmente una celda de
electro-obtención de cobre basada en Electro
Diálisis Reactiva (EDR) y realizó una
caracterización físico-química del electrodepósito y
concluyó que el aditivo guar sumado a las adiciones
de todas las impurezas presentes en el electrolito
disminuyó la eficiencia de la corriente.

1. INTRODUCCIÓN
La obtención de cátodos de alta calidad, se produce
sólo después que la soluciónprocedente de la
lixiviación de minerales oxidados y mixtos de cobre,
es purificada y concentrada en la planta de
extracción por solventes. En la etapa de electroobtención, la solución es acondicionada para obtener
cátodos de cobre 99,99% de pureza.
No obstante que con la aplicación del proceso de
extracción por solventes se obtiene un electrolito
con elevado nivel de pureza y con una
concentraciónque satisface los requerimientos para
llevar a cabo, en forma óptima, el proceso de
electro-obtención, en la práctica es inevitable la
presencia de ciertos iones, tales como Fe+2, Mn+2,
Cl-, entre otros, los que, aún en bajos niveles de
concentración, pueden generar diversos efectos,
tanto sobre la calidad del depósito como sobre la
estabilidad de los materiales.

2. PARTE EXPERIMENTAL
El...