Craqueo Catalitico

http://es.scribd.com/doc/60714802/Proceso-Craqueo-Catalitico-Fluidizado












Paneles fotovoltaicos de silicio cristalino

Fabricación del silicio de grado solar


El siliciode grado solar necesita una pureza de 0,01 ppm (particulas por millón) respecto del silicio de grado electrónico que requiere una pureza del orden de 0,001 ppm. Esto permite usar métodos depurificación no tan complejos y mas económicos para su fabricación como es el Reactor de  Lecho Fluidizado FBR (en su siglas en Inglés) en lugar del método tradicional o Reactor Siemens que se usa en laindustria electrónica y que se realiza con un metodo de fabricación discontinuo o bach y que requiere un alto consumo de energía en el funcionamiento del reactor, en cambio, el reactor de lecho fluidizadopermite una fabricación continua del silicio solar y requiere un gasto de energía en su funcionamiento del 10 al 20 % del gasto de energía del reactor tradicional Siemens, lo cual representa una altareducción de los costes de fabricación del silicio solar.
La fabricación del silicio purificado de grado solar consta de tres pasos generales:
El primer paso es la desoxidación del óxido de silicio ocuarcita (SiO2) el cual se hace en un horno de arco eléctrico utilizando carbón o coque como elemento reductor del óxido de silicio y obteniendose silicio bruto el cual tiene una pureza del orden del99% o sea de alrededor de 100 ppm.
El segundo paso para la obtención del silicio purificado consta de la purificación del silicio y de la separación de las impurezas que contiene el silcio en suestado bruto, para esto, como es muy difícil purificar un líquido o un elemento sólido lo que se hace es gasificar el silicio bruto y separar las impurezas por destilación en una torre de destilación, paraesto a partir del silicio bruto se genera el triclorosilano (SiHCl3) para lo cual se combina el silicio con ácido clorídrico (HCl) a unos 300 ºC ya que a temperatura ambiente el triclorosilano es...