Electromaquinado

Introducción:
El Micromaquinado electroquímico de silicio en solución basada en HF es una tecnología de mayor microestructuración. Entre las características principales esta: la posibilidad decambiar la anisotropía grabado , así como la alta relación de aspecto de estructuras viables . Tales características permiten una mayor flexibilidad en la microfabricación de silicio a alcanzar, inclusocon respecto a secar herramientas de grabado.

Fabricación MEMS Estructura por ECM
La fabricación de estructuras MEMS se lleva a cabo con los siguientes pasos: Una oblea de silicio de tipo n, con unacapa de silicio de 200 nm de espesor de dióxido en la parte superior, está modelada por fotolitografía estándar con el diseño de la estructura a fabricar. El patrón en primer lugar se transfiere a lacapa de dióxido de silicio usando una solución BHF y, a continuación a la superficie del sustrato de silicio usando una KOH, El óxido, la capa, que actúa como capa de enmascaramiento durante el pasode grabado KOH, se retira entonces de la superficie del sustrato de silicio usando una La réplica de la disposición de estructura acanalada en la superficie del sustrato de es explotada para elcontrol de la disolución de silicio durante la etapa de ataque electroquímico siguiente. El grabado electroquímico se lleva a cabo bajo iluminación de la cara posterior del sustrato de Con el fin deproporcionar los microfabricados estructuras independientes con accionamiento eléctrico y capacidades de detección capacitivos.Una capa de dióxido de silicio obtenido por crecimiento térmico y un posteriorsemiconformal deposición de metal son explotados para formar electrodos altamente conductoras sobre la superficie de las estructuras microfabricadas .. La fabricación de estructuras MEMS de altarelación de aspecto por ECM requiere el diseño exacto de la disposición de estructura, así como un control preciso del grabado electroquímico de la disposición tanto en la fase anisotrópica e isotrópico....