Fosfina

OBJETIVO: Analizar este compuesto, fosfina, para de esta forma conocer más acerca de este y de este modo poder lograr una mejor manipulación del mismo, sin ningún tipo de riesgos o percances durantesu uso.


DESCRIPCION
La fosfamina se llama también fosfuro de hidrógeno o hidrógeno fosforado. Es una molécula polar. Es un gas incoloro, inflamable, que explota a temperatura ambientedesprendiendo vapores de ácido fosfórico; poco soluble en el agua, y con gran combustibilidad que se reconoce por su olor aliáceo (ajo, cebolla, azufre o pescado podrido. Es un poderoso reductor que seapropia del oxígeno de muchos cuerpos para transformarse en ácido fosfórico. Por esta propiedad es extremadamente venenoso, pues deja al cuerpo humano sin oxígeno necesario. Se une con los hidrácidos paraformar compuestos que son isomorfos con las sales amónicas, por ejemplo: PH3 + HCl --> PH4Cl. El radical PH4+ monovalente se llama fosfonio y es parecido al amonio (NH4+). Pequeñas cantidades ocurrennaturalmente provenientes de la degradación de materia orgánica.
USOS
La fosfamina es usada en las industrias de semiconductores y de plásticos, en la producción de un retardador de llamas y comoinsecticida en granos almacenados, ya que no afecta el poder germinativo. Comercialmente se le conoce Phostoxín o Gastoxín y es a razón de 4 a 10 comprimidos por cada tonelada de granos a granel. Enproductos ensacados se utilizan cuatro comprimidos por metro cúbico.
A pesar de que la fosfina no tiene gran utilidad, las fosfinas que se encuentran sustituidas funcionan como reactivos importantesen la química de los metales de transición. La fosfina sustituida más común es la trifenilfosfina, P (C6H5)3, la cual se suele conocer con la abreviatura PPh3.
La Fosfina se utiliza principalmente enla fabricación de semiconductores. El átomo de fósforo es un dopante de tipo n para los productos de base silicio epitaxial (contactos de emisores, fuentes o colectores); se introduce en el silicio...