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***** PROCESO QUIMICO DE UN PROCESADOR *****

1. La arena es el ingrediente base para la fabricación de semiconductores gracias a sus altos porcentajes en silicio. Este material es purificado através de múltiples pasos para conseguir una alta calidad en el silicio. Para hacernos una idea, el material resultante tan sólo puede tener 1 átomo impuro entre 1.000 millones de átomos de silicio. Enla segunda imagen, se cultiva un cristal a partir de la masa fundida de silicio purificado.
En la última imagen se produce un lingote de silicio que pesa aproximadamente 99,97 kilogramos.

2. Ellingote se corta en obleas de silicio, que son simplemente discos de este material. Como se observa en la segunda imagen, las obleas son pulidas hasta conseguir un acabado liso impecable. Intel nofabrica estas obleas, sino que las compra a terceras empresas. En el proceso de fabricación de 45 nanómetros, Intel utiliza obleas de 300 milímetros.

3. El líquido azul en la primera imagen aporta unacabado resistente a la luz que se vierte sobre las obleas mientras estas giran. En la segunda imagen, el proceso acaba y es similar al que se utiliza en las películas fotográficas. A continuación seañaden una especie de plantillas o máscaras que, junto con la luz ultravioleta se utilizan para crear los circuitos sobre cada capa del microprocesador.
Una lente, justo en el centro de la luzultravioleta, reduce la imagen de la máscara hasta el punto de que lo que se imprimirá en la oblea será aproximadamente cuatro veces más pequeño que el patrón.
La tercera imagen muestra un transistor, queson los que controlan el flujo de corriente eléctrica en los chips (la dejan pasar o no). Intel ha desarrollado transistores tan pequeños que unos 30 millones de ellos caben en la cabeza de un alfiler.4. Los transistores sufren una serie de procesos químicos a través de disolventes que dejarán la muestra para el siguiente paso de ionización.

5. La capa en azul es foto-resistente y se aplica...