INSTITUTO TECNOLOGICO

Páginas: 7 (1601 palabras) Publicado: 11 de enero de 2016
INSTITUTO TECNOLOGICO “TECNOECUATORIANO”
NOMBRE: CHRISTIAN ENRIQUEZ
MATERIA: TECNOLOGIA DE MATERIALES
NIVEL: SEGUNDO TEMA: SILICON VALLEY
SILICON VALLEY
Silicon Valley (también conocida como Valle de Silicio) es el nombre que recibe la zona sur del área de la Bahía de San Francisco, en el norte de California, Estados Unidos.
El Silicon Valley aloja muchas de las mayores corporaciones detecnología del mundo y miles de pequeñas empresas en formación (start-ups). Originalmente la denominación se relacionaba con el gran número de innovadores y fabricantes de chips de silicio fabricados allí, pero definitivamente acabó haciendo referencia a todos los negocios de alta tecnología establecidos en la zona; en la actualidad es utilizado como un metónimo para el sector de alta tecnología de losEstados Unidos (a la manera de Hollywood para el cine estadounidense).
A pesar del desarrollo de otros centros económicos de alta tecnología en Estados Unidos y por el mundo, Silicon Valley continúa siendo el centro líder para la innovación y desarrollo de alta tecnología, recibiendo un tercio (1/3) del total de la inversión de capital de riesgo en Estados Unidos.

El transistor de silicio y elnacimiento del Silicon Valley
A diferencia de otros investigadores que utilizaban germanio como material semiconductor, Shockley creía que el silicio era un mejor material para fabricar transistores. Shockley se propuso mejorar el transistor con un diseño de tres elementos (hoy se le conoce como el diodo Shockley) que obtendría éxito comercial, pero cuyo diseño era considerablemente más difícilde construir que el diseño convencional. A medida que el proyecto pasó por varias dificultades, Shockley se volvió cada vez más paranoico. Exigió que los empleados se sometieran a un detector de mentiras, anunció sus salarios públicamente y, en general, se enemistó con todo el mundo, y en 1957, Shockley decide finalizar el trabajo relacionado con el transistor de silicio, todos factores queayudaron a que en 1957, ocho de los ingenieros más brillantes, que él mismo había contratado, lo abandonaran para formar la compañía Fairchild Semiconductor. Shockley los llamaba los "ocho traidores". Dos de los empleados del grupo original de Fairchild Semiconductor, Robert Noyce y Gordon Moore, a su vez luego fundarian Intel.
SILICONA
La silicona es un polímero inodoro e incoloro hecho principalmentede silicio. La silicona es inerte y estable a altas temperaturas, lo que la hace útil en gran variedad de aplicaciones industriales, como lubricantes, adhesivos, moldes, impermeabilizantes, y en aplicaciones médicas y quirúrgicas, como prótesis valvulares cardíacas e implantes de mamas. También se denomina silicona a la familia de compuestos químicos sintetizados por primera vez en 1938.Frederick Kipping es el químico pionero en el estudio de compuestos orgánicos que contiene moléculas de carbono y silicio y fue quien acuñó el término silicona.
Se deriva de la roca de cuarzo y al ser calentado en presencia de carbono produce silicona elemental. Dependiendo de posteriores procesos químicos, la silicona puede tomar una variedad de formas físicas que incluyen aceite, gel y sólido. Por suversatilidad ha sido usado con éxito en múltiples productos de consumo diario. Tal es el caso de lacas para el cabello, labiales, protectores solares y cremas humectantes. Dada su baja reactividad ha sido ampliamente usada en la industria farmacéutica en confección de cápsulas para facilitar la ingestión de algunos medicamentos, en antiácidos bajo la designación de meticona. Hay más de 1000productos médicos en los cuales la silicona es un componente.
También es una sustancia comúnmente usada como lubricante en la superficie interna de las jeringas y botellas para la conservación de derivados de la sangre y medicamentos intravenosos. Los marcapasos, las válvulas cardíacas y el Norplant usan recubrimientos de silicona. Son también fabricados con silicona artefactos implantables como...
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