Materiales

Depósito de películas por centrifugación o “spin-coating”
Para el depósito de las películas de ZnO:Al primeramente se colocó el sustrato adecuadamente en la centrífuga o“spinner”, posteriormente se depositó la solución precursora o sol-gel sobre el sustrato hasta que se cubrió toda el área del sustrato. La velocidad de depósito aplicada en el spinnerfue a 14000 revoluciones por minuto (RPM) durante 20 segundos a temperatura ambiente (aproximadamente 23°C ± 1 °C), estos parámetros se mantuvieron constantes para el depósitode las películas.
En el proceso de depósito se evaporaron parte de los solventes que estaban presentes en el sol-gel mediante la fuerza centrífuga que fue aplicada al momentoen que se giró el sustrato.
Secado
En la etapa de secado se llevó le película depositada a la gelación, eliminando el solvente que aún se encontraba en la película,aumentando así su viscosidad y gelificando.
Se estudió el efecto de las temperaturas y tiempo de secado sobre las películas de ZnO:Al para 5 capas de depósito. El secado de laspelículas para cada capa fue a tres diferentes temperaturas a 100, 150 y 200 °C a dos diferentes tiempos de 10 y 60 minutos.
Se utilizó una plancha de calentamiento, sobre la plancha seincorporó una placa de aluminio, para distribuir la temperatura y que el secado fuera uniforme en la película.
Tratamiento térmico
El tratamiento térmico o sinterizado a laspelículas se realizó a 500°C en atmósfera de aire durante 1 hora en un horno tubular, en esta etapa se eliminó el material orgánico presente en las películas. En esta etapatambién se inicia el ordenamiento y crecimiento de los granos de ZnO el cual es posiblemente sustituido intersticialmente por el aluminio en la estructura de ZnO o “wurtzita”.