Patrones de diseño

Fecha CTIC-FSECSS-F3 Código

Enero 2007 2007/F3/011605

DISEÑO FORMATIVO Patrones de Diseño J2EE I

Grupo destinatario:

Trabajadores/as en activo, titulación en informática a nivel universitario, de formación profesional y/o experiencia equivalente, conocimientos de JAVA/J2EE, struts, web services y programación orientada a Objetos. Se valorarán otros conocimientos informáticosrelacionados. Llanera 21 horas 13 • 15 horas de formación presencial específica. • 6 horas de formación transversal.
17/10/2007

Lugar de celebración Duración Número de alumnos/as Modalidad Fecha de Inicio Fecha de Finalización Horario

20/10/2007

18:00 h a 21:00 h (XJ), 16:30 a 21:00 h (V) y 9:30 h a 14:00 h (S)

Parque Científico y Tecnológico de Gijón. Edificio Centros Tecnológicos. 33203 -Cabueñes - Gijón - Asturias - España Tfno.: 984 29 12 12 Fax: 984 39 06 12 www.fundacionctic.org info@fundacionctic.org

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1. DATOS GENERALES
• • • • • ACCIÓN FORMATIVA: PATRONES DE DISEÑO J2EE LUGAR: Llanera TOTAL HORAS: 21 HORAS. NÚMERO DE PARTICIPANTES: 13 DESTINATARIOS/AS:

Trabajadores/as en activo, titulación en informática a nivel universitario, de formación profesional y/oexperiencia equivalente, conocimientos de JAVA/J2EE, struts, web services y programación orientada a Objetos. Se valorarán otros conocimientos informáticos relacionados.

2. OBJETIVOS
• OBJETIVO GENERAL: Al finalizar la acción formativa, el Alumno será capaz de desarrollar aplicaciones web J2EE construidas sobre el Framework Struts del principado de Asturias, mediante la aplicación de patrones dediseño y utilizando Web Services en su Arquitectura.

• OBJETIVOS OPERATIVOS: Utilizar los patrones de diseño Gang of Four (de comportamiento, creación y estructurales). Reconocer los patrones J2EE. Aplicar los patrones adecuados, en cada una de las capas de una aplicación J2EE. Utilizar patrones, como forma de aplicar las mejores prácticas en un entorno J2EE. Reconocer antipatrones, con el finde evitar malas prácticas en el desarrollo de aplicaciones. Aplicar las guías de diseño J2EE BluePrints. Identificar los factores de riesgo derivados de la utilización de las tecnologías de la información y la comunicación, asociando cada riesgo con la medida de prevención adecuada con el fin de evitar daños físicos y/o psicológicos debidos al desarrollo de la actividad profesional. Describir lasbuenas prácticas para desarrollar las tareas del puesto de trabajo en un entorno de respeto al medioambiente. Identificar las medidas y herramientas que se deben aplicar para fomentar la igualdad de oportunidades en el ámbito laboral.

Parque Científico y Tecnológico de Gijón. Edificio Centros Tecnológicos. 33203 - Cabueñes - Gijón - Asturias - España Tfno.: 984 29 12 12 Fax: 984 39 06 12www.fundacionctic.org info@fundacionctic.org

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3. CONTENIDOS
FORMACIÓN ESPECÍFICA: PATRONES DE DISEÑO J2EE.
UD1: Explorando los principios de diseño de la orientación a objetos y los patrones de diseño. UD2: Utilización de los patrones de comportamiento "Gang of Four" UD3: Utilización de los patrones de creación "Ganf of Four" UD4: Utilización de los patrones estructurales "Ganf of Four" UD5:Utilización de los bloques de construcción arquitectónicos UD6: Introducción a los patrones J2EE UD7: Utilización de patrones para la capa de integración UD8: Utilización de patrones para capa "Presentation-to-Business" UD9: Utilización de patrones para la capa "Intra-Business" UD10: Utilización de patrones para la capa de "Micro Presentación" UD11: Utilización de patrones para la capa de "MacroPresentación" UD12: Explorando AntiPatrones UD13: Aplicando la guías de diseño "J2EE BluePrints"

FORMACIÓN TRANSVERSAL

(Tal como establece la convocatoria, los alumnos-as que acrediten haber realizado esta formación con anterioridad, no es necesario que la repitan)

ACCIÓN 1. SEGURIDAD Y PREVENCIÓN DE RIESGOS LABORALES EN EL ÁMBITO DE LAS TIC UD 1: Conceptos generales sobre seguridad y...