Sistemas De Limpieza En Liacutenea Clean In Place

tecnología de laboratorios

Juan Sola Domingo
HallTech · www.halltech.biz

Sistemas de Limpieza en
Línea (Clean In Place - CIP) y
Fuera de Línea (COP) para el
sector Bio-Farma

Los proveedores de CIP y COP responden con nuevos diseños y materiales a las especificaciones de
limpieza cada vez más exigentes

¿Cuándo nuestro sistema está
realmente limpio?
Los sistemas de limpieza para unidades deproducción en la industria farmacéutica se
van perfeccionando, debido a la exigencia
creciente de los bio-procesos y a la incorporación de nuevos materiales y tecnologías tanto en los procesos de limpieza en sí
mismos, como en los sistemas de medida
de posibles contaminaciones en las unidades de proceso o en los productos finales.
Las reglas básicas de la FDA americana
sobre limpieza, en que se basanla mayoría
de las regulaciones occidentales, tan solo
especificaban que los potenciales residuos
no deben adulterar de ningún modo el
producto final. Actualmente los FDA cGMP
Americanos, los EC GMP Europeos y los
PMDA GMP Japoneses son todos muy similares. En la siguiente sección miramos las
clausulas principales de los GMP Europeos
que hacen referencia a la limpieza.
EC GMP
EC Good ManufacturingPractice - Medicinal Products for Human and Veterinary
Use - Part II: Basic Requirements for Active Substances used as Starting Materials
(ENTR/F/2/AM/an D(2010) 3374 – 3 de febrero del 2010.
Varias secciones de las GMP hacen referencia a distintos aspectos de limpieza:
5.21 Normas escritas de limpieza con
suficientes detalles para un operador. Deben incluir personas responsables, periodicidad delimpieza, métodos y materiales
de limpieza, instrucciones de desmontaje
de equipos (si es necesario), sistema para
borrar el número de lote anterior, mane58 NOVIEMBRE/DICIEMBRE12

Los sistemas de producción
en bio-farma actuales
tienden a operar en circuitos
virtualmente cerrados

ra de proteger el equipo limpio, método
de inspección de limpieza antes de utilizar
equipo y tiempo máximo entreutilización
y limpieza del equipo.
5.23 Donde el equipo funciona en producción continua de un API, se tiene que
limpiar a intervalos adecuados para evitar
la acumulación de contaminantes.
5.24 El equipo no-dedicado se tiene que
limpiar entre producción de distintos materiales para evitar contaminación cruzada.
5.25 Los criterios de aceptación de residuos y la selección de procesos y aditivos
delimpieza tiene que ser definidos y justificados.
5.26 El contenido y estado de limpieza
del equipo tiene que ser identificado.
6.20 Se tiene que mantener datos del
uso, limpieza, esterilización y mantenimiento de equipos mayores, junto con la fecha,
hora, producto, número de lote de cada
lote procesado y el nombre del responsable de la limpieza y/o mantenimiento.
12.70 Los procesos de limpiezanormalmente tienen que ser validados. En general la validación es más importante donde
la contaminación puede tener un mayor
efecto sobre calidad. En producción de
origen, puede ser innecesario si etapas de
purificación posterior pueden eliminar los
residuos.
12.71 Los procesos de validación tienen
que reflejar la utilización real del equipo, la

solubilidad y dificultad de limpieza, cálculos de límitesde residuos según su potencia, toxicidad y estabilidad.
12.72 El protocolo de validación de
limpieza tiene que describir el equipo,
procesos, materiales, niveles de limpieza
aceptables, parámetros de medida y los
métodos analíticos. Se tiene que definir el
tipo de muestras necesarias, como tomarlas y como etiquetarlas.
12.73 El muestreo puede incluir aclarado, enjuague, frotamiento u otrossistemas
para la detección de residuos solubles e
insolubles. Los métodos de muestreo tienen que ser capaces de medir niveles de
residuos en superficies cuantitativamente
después de la limpieza.
12.74 Se tiene que utilizar métodos analíticos validados con suficiente sensibilidad
para detectar los residuos o contaminantes presentes al nivel necesario. Se tiene
que establecer el nivel de recuperación
para...