Superficies Quimica

Espectroscopia fotoelectrónica de rayos X ( XPS )
Fundamentos
La técnica de espectroscopía fotoelectrónica de rayos-X consiste básicamente en la excitación mediante un haz de rayos-X de losniveles más internos de los átomos, provocando la emisión de fotoelectrones que nos proporcionan información sobre la energía de cada nivel y, por tanto, sobre la naturaleza de cada átomo emisor.
Puesto quela energía del haz es hv, si el fotoelectrón sale con una energía cinética EK, la diferencia entre ambas nos da la energía de ligadura (EL) del átomo en particular, característica de cada elemento.Todo se resume a medir la velocidad de los electrones emitidos mediante el espectrómetro:
EL = hv - EK
Para ello es necesario trabajar en condiciones de Ultra Alto Vacío UHV (ultra high vacuum). Estose consigue mediante el uso de bombas turbo-moleculares y bombas iónicas apoyadas con vacíos previos obtenidos por bombas rotatorias de aceite.
 
Aplicaciones
La técnica XPS se usa en investigación,desarrollo de nuevos materiales y en controles de calidad en fabricación. Esta técnica es capaz de obtener la composición química de varias superficies materiales hasta 1-2 nm de profundidad. Es posiblesaber la composición superficial de un material e incluso el estado de oxidación y si contiene un determinado elemento. Se pueden detectar todos los elementos, exceptuando el hidrógeno. Lasensibilidad depende de cada elemento en particular. El objetivo principal de esta técnica consiste en dar la composición porcentual de una determinada capa así como el estado de oxidación de los elementos quela forman.




Espectroscopia de electrones de auger ( AES )
Fundamentos
Espectroscopías relacionadas. AES (Auger Electron Spectroscopy). Esta técnica analiza los electrones emitidos mediante elfenómeno estudiado en la sección primera de este tema. Puesto que cada elemento tiene su espectro Auger característico, se pueden realizar análisis elementales cuantitativos. El espesor de las capas...