deposicion fisica de vapor

Deposición física de vapor.
La deposición física en fase vapor (PVD, por sus siglas en inglés) es un proceso de recubrimiento termofísico en el que los materiales de revestimiento se vaporizan enuna cámara de vacío que contiene gas reactivo y se depositan en la pieza a tratar. Existen varios métodos de PVD entre los que se incluyen la evaporación en arco y la dispersión por magnetrón, con losque se depositan una variedad de elementos o compuestos.
En el proceso de PVD en arco el material de recubrimiento se vaporiza en un entorno de vacío con la ayuda de un arco eléctrico. El materialvaporizado pasa a estado de plasma mediante una descarga luminiscente. Las capas creadas mediante este proceso, en el intervalo de temperaturas entre 200 y 550 ºC, confieren buenas propiedadestribológicas a una amplia gama de materiales. Pueden producirse recubrimiento de una o de varias capas, así como capas de varios elementos y sistemas de recubrimiento con buena adhesión. En el proceso magnetrónPVD el material de revestimiento se dispersa desde un anticátodo utilizando partículas de alta energía. Los compuestos se pueden depositar en una pieza a tratar mediante la adición de un gas reactivocomo el Nitrógeno o el Oxígeno. Las capas que se crean a temperaturas de hasta 150 ºC pueden utilizarse para una amplia gama de materiales, incluidos los plásticos.
fases de integración de una capacon recubrimiento PVD.

Ventajas de los recubrimientos PVD
Los beneficios de elaboración al emplear herramientas recubiertas con técnicas PVD son considerables, porque entre otra cosas: prolonga lavida útil, dependiendo del tipo de herramienta aumenta los parámetros de producción, reduce los esfuerzos de corte o estampado, evita agarrotamientos, reduce los tiempos muertos por manos cambios deherramientas, etc.Las posibilidades que dan los recubrimientos PVD, son muchas más que la de la aplicación concreta de las herramientas, moldes, troqueles, etc. Existen numerosos componentes de...