El Silicio Amorfo FOTOVOLTAICA


El Silicio.
Las células solares más comunes son las del Silicio cristalino. El Silicio cristalino como materia prima es por tanto clave para determinar el volumen y precio de los módulosfotovoltaicos.
El Silicio es el elemento, tras el oxigeno, más abundante y distribuido por nuestro planeta, pero no se encuentra aislado sino combinado con Oxígeno (60% de la corteza terrestre). El Silicio parauso industrial parte de la cuarcita que es un 90% oxido de Silicio SiO2.
En esta ocasión hablaremos sobre las células de Silicio amorfo, cuyo proceso de preparación tiene variables fácilmentecontrolables, aspecto que contribuye positivamente en su fabricación. Se puede preparar sobre varios sustratos como por ejemplo el vidrio, acero inoxidable o polímeros, lo cual lo hace muy versátil.
Tambiénse puede producir módulos de gran área y escala de forma continua, esto hace que su fabricación sea de bajo costo.
Método de Preparación.
El sistema más utilizado es la descarga luminiscente de radiofrecuencia o PECVD (Deposición química a partir de la fase vapor asistida por plasma), ya que es el proceso que produce células solares más eficientes.
La Deposición Química de Vapor o CVD (de sussiglas en inglés Chemical Vapor Deposition) es un proceso químico utilizado para producir productos de alta pureza y de alto rendimiento de materiales sólidos. El proceso se utiliza a menudo en laindustria de semiconductores para producir películas delgadas.
En un proceso CVD estandar el sustrato se expone a uno o más precursores volátiles, que reaccionan o se descomponen en la superficie delsustrato para producir el depósito deseado. Con frecuencia, también se producen subproductos volátiles, que son eliminados por medio de un flujo de gas que pasa a través de la cámara de reacción.
Losprocesos de micro fabricación CVD se emplean ampliamente para depositar materiales en diversas formas, incluyendo: monocristalino, policristalino, amorfo. Estos materiales incluyen: silicio, fibra de...