ESTUDIO RESISTIVIDAD

DISEÑO DEL SISTEMA DE PUESTA A TIERRA PCS 5000 UNION
PARAISO

Fecha:
28/02/14
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ESTUDIO DE RESISTIVIDAD PARA SISTEMA DE PUESTA A TIERRA
PCS 5000 UNION PARAISO
A. PRESENTACIÓN:
1. Nombre del Proyecto:
PCS 5000 UNION PARAISO
2. Ubicación:
Dirección: AAHH HORACIO ZEVALLOS MZ. G LT. 8-A
Distrito: ATE.
Provincia: LIMA.
Departamento: LIMA.
3. Tipo de Terreno y Color delSuelo:
Arenosa.
4. Método a Utilizar:
Método de Wenner.
El principio básico de este método es la inyección de una corriente directa
o de baja frecuencia a través de la tierra entre dos electrodos C1 y C2
mientras que el potencial que aparece se mide entre dos electrodos P1 y
P2. Estos electrodos están enterrados en línea recta y a igual separación
entre ellos. La razón V/I es conocida comola resistencia aparente. La
resistividad aparente del terreno es una función de esta resistencia y de
la geometría del electrodo.

En la figura se observa esquemáticamente la disposición de los
electrodos, en donde la corriente se inyecta a través de los electrodos
exteriores y el potencial se mide a través de los electrodos interiores.
5. Equipo Utilizado: Telurometro Digital MarcaMegabras – Modelo
MTD 20KWe, N° Serie 13K2512.
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6. Fecha y Hora que se realizó la medida: 03:48 pm del 26.02.14.
7. Evidencia Fotográfica:

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B. DISEÑO Y CONSTRUCCIÓN:

1. Cuadro con las Medidas Realizadas en Campo
Dirección 0º y 180º
CUADRO 1

RESISTENCIA

ESPACIAMIENTO (a)

1RA MEDICION

2DA MEDICION

3RA MEDICION

PROMEDIO

0.5

5.16

4.19

4.94

4.76

1

3.74

3.68

3.47

3.63

2

3.34

3.10

2.83

3.09

3
4
5

3.00

2.61

2.42

2.68

2.06

1.99

2.042.03

1.90

1.81

1.94

1.88
3.01

2. Fórmulas Utilizadas
2.1

Calculo de Resistividad



4AR
 

2A
2A
1  

2
2 0.5
2
  A  4B
 4 A  4B 2

 









0.5





Donde:
ρ: Resistividad promedio a la profundidad (A) (Ω-m)
A: Distancia entre electrodos (m)
B: Profundidad de enterrado de los electrodos (m)
R: Lectura de terrómetro(Ω)

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2.2

Calculo de Resistividad Aparente



h h
a   1 2
 h1 h2
 
 1  2








Donde:
ρa:
ρ1:
ρ2:
h1:
h2:
2.3

Resistividad aparente (Ω-m)
Resistividad 1ra Capa (Ω-m)
Resistividad 2da Capa (Ω-m)
Primera capa (m)
Segunda capa (m)

Calculo deResistividad de Diseño

d  (1  R%)a

Donde:
ρd: Resistividad de Diseño
R%: Porcentaje de Reducción
(65 % Por uso de Thor Gel y Bentonita Sódica)
ρa: Resistividad aparente (Ω-m)
2.4

Resistencia de un Solo Electrodo

Re 

d
 4L 
Ln 
2L  D 

Donde
ρa: Resistividad aparente (Ω-m)
Re: Resistencia de un electrodo Vertical (Ω)
ρd: Resistividad de diseño
L: Longitud delElectrodo (m)
D: Diámetro del Electrodo (m)

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Calculo de resistencia para múltiples electrodos
De acuerdo a la publicación de IEEE4 – std 142 – 1991 pag. 178
Múltiples electrodos en paralelo alcanzan una menor resistencia a...