PEL_CULAS DELGADAS NANOESTRUCTURADAS DE NITRURO DE ALUMINIO

Suplemento de la Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales 2009; S1 (3): 1065-1069

PELÍCULAS DELGADAS NANOESTRUCTURADAS DE NITRURO DE ALUMINIO
DEPOSITADAS POR ABLACIÓN LÁSER
H. Riascos 1, J.A. Pérez1*, R. Ospina2, L. Tirado-Mejía 3

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Este artículo forma parte del “Volumen Suplemento” S1 de la Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales
(RLMM). Los suplementos de la RLMM sonnúmeros especiales de la revista dedicados a publicar memorias de
congresos.

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Este suplemento constituye las memorias del congreso “X Iberoamericano de Metalurgia y Materiales (X
IBEROMET)” celebrado en Cartagena, Colombia, del 13 al 17 de Octubre de 2008.

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La selección y arbitraje de los trabajos que aparecen en este suplemento fue responsabilidad del Comité
Organizador del X IBEROMET, quiennombró una comisión ad-hoc para este fin (véase editorial de este
suplemento).

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La RLMM no sometió estos artículos al proceso regular de arbitraje que utiliza la revista para los números regulares
de la misma.

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Se recomendó el uso de las “Instrucciones para Autores” establecidas por la RLMM para la elaboración de los
artículos. No obstante, la revisión principal del formato de los artículosque aparecen en este suplemento fue
responsabilidad del Comité Organizador del X IBEROMET.

0255-6952 ©20096 Universidad Simón Bolívar (Venezuela)

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Suplemento de la Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales 2009; S1 (3): 1065-1069

PELÍCULAS DELGADAS NANOESTRUCTURADAS DE NITRURO DE ALUMINIO
DEPOSITADAS POR ABLACIÓN LÁSER
H. Riascos 1, J.A. Pérez1*, R. Ospina2, L. Tirado-Mejía 31

Departamento de Física, Universidad Tecnológica de Pereira, Colombia
2
Universidad Nacional de Colombia, sede Manizales, Colombia
3
Laboratorio de Optoelectrónica, Universidad del Quindío, Armenia – Colombia
* E-mail: jaimeandres@ingenieros.com
Trabajos presentados en el X CONGRESO IBEROAMERICANO DE METALURGIA Y MATERIALES IBEROMET
Cartagena de Indias (Colombia), 13 al 17 de Octubre de 2008Selección de trabajos a cargo de los organizadores del evento
Publicado On-Line el 29-Jul-2009
Disponible en: www.polimeros.labb.usb.ve/RLMM/home.html

Resumen
En este trabajo se ha depositado películas nanoestructuradas de AlN mediante el método de Deposición por Láser Pulsado
(DLP) con un láser Nd:YAG (λ=1064 nm), en diferentes gases de trabajo (Nitrógeno), usando como blanco Aluminio de
altapureza y como sustrato portamuestras de vidrio y Si3N4 (100). La presión del gas ambiente se varió entre 0.39Pa y
1.46 Pa. Mientras la fluencia del láser se mantuvo constante a 7 J/cm2, la temperatura de los sustratos no se varió, en este
caso se fijo en 25ºC. El espesor de las películas en promedio fue de 75 nm, medido con un perfilometro, el tiempo de
deposición fue de 15 minutos. Lananoestructuras y la morfología de las películas se estudiaron usando difracción de rayos
X (DRX) y microscopia electrónica de barrido (SEM) al igual Espectroscopia de infrarrojos por transformada de Fourier
FT-IR para todas las películas.
Palabras Claves: Nanoestructuras, ablación láser, nitruro de aluminio (AlN), películas delgadas, DRX, FT-IR.
Abstract
AlN nanostructured thin films were deposited by PulsedLaser Deposition (PLD) with a laser Nd: YAG (λ = 1064 nm),
from Al target with high purity and different substrates (glass and Si3N4 (100)). Gas pressure was varied between 1.46 and
0.39Pa. Whereas, laser fluence remained constant at 7 J/cm2, substrate temperature not changed, it was fixed at 25° C.
With a profilometer the thickness of films was measured, it was 75 nm on average. Thenanostructure and morphology of
the films were studied using X-ray Diffraction (DRX), Scanning Electron Microscopy (SEM) and Fourier Transform
Infrared spectroscopy (FTIR) .
Keywords: Nanostructure, laser ablation, aluminium nitride (ALN), thin films, DRX, FT-IR.

1.

INTRODUCCIÓN.

En los últimos años se ha realizado un esfuerzo
importante en la búsqueda de nuevos materiales con
estructuras cada vez más...