revelados de placas

PROCESO DE REVELADO Y FIJACION DE LAS PLACAS

REVELADO:
El primer paso del sistema de revelado consiste en humedecer la película, por ej. Mojando en agua, para favorecer así que los compuestosquímicos del liquido revelado penetre y alcance uniformemente todas las partes de la emulsión
En los procesadores automáticos el humectante, agua normalmente se añade al liquido revelador comodisolvente.
Durante el proceso de revelado va a tener lugar la ación del proceso ya iniciado en la formación de la imagen latente, es decir, continua y se multiplica la transformación de los iones de plataen plata metálica que queda depositada alrededor de las películas sensitivas, siendo el liquido revelador de compuestos químicos encargado de llevar a cabo esta tarea
COMPUESTOS QUIMICOS DELREVELADO:
El componente principal del revelado es la hidroquinona siendo otros constituyentes secundarios la fenidona, en el revelado automático, y el mentol, en el revelado manual. Estos compuestos sonreductores y por tanto tiene muchos electrones en su superficie exterior que pueden ser liberadas con facilidad neutralizando así a los iones positivos de plata
PARAMETRO QUE INFLUYEN EN EL PROCESODE REVELADO:
Al final del proceso del revelado, y si este ha sido correcto, el cristal expuesto se ha destruido completamente quedando en su lugar un grano lleno de plata metálica y son liberadoshacia las gelatinas los iones bromuro y yoduro disolviéndose en el revelado, sin embargo, normalmente el proceso de revelado no es perfecto del todo, de tal forma que algunos cristales expuestos quedansin revelar y otros no expuestos son revelados, este hecho origina velo y disminuye la calidad de la imagen. Para que el proceso de revelado sea optimo, es decir, que solo sean reducidos a platametálica los granos expuestos y no los restos, es preciso vigilar los 3 parámetros básicos que influyen directamente en las reacciones químicas que tiene lugar durante el mismo estos parámetros son:
1....