no metal silicio
Páginas: 8 (1873 palabras)
Publicado: 11 de febrero de 2015
SILICIO
1. INTRODUCCIÓN
El silicio es un elemento químico metaloide, número atómico 14 y situado en el grupo 14 de la tabla periódica de los elementos formado parte de la familia de los carbono ideos de símbolo Sí. Es el segundo elemento más abundante en la corteza terrestre (27,7 % en peso) después del oxígeno. Se presenta en forma amorfa ycristalizada; el primero es un polvo parduzco, más activo que la variante cristalina, que se presenta en octaedros de color azul grisáceo y brillo metálico.
1.1 RESEÑA HISTÓRICA SOBRE EL MATERIAL
HISTORIA
Se llamó la atención primero a la sílice como el posible óxido de un elemento químico fundamental de Antoine Lavoisier, en 1787. Después de un intento de aislar el silicio en 1808, Sir HumphryDavy propuso el nombre de "silicio" para el silicio, del latín silex, silicis de pedernal, pedernal, y añadiendo el "-io" acabar porque creía que era un metal. En 1811, se cree que Gay-Lussac y Thnard haber preparado silicio amorfo impuro, a través del calentamiento de potasio metálico aislado recientemente con tetrafluoruro de silicio, pero no se purifican y caracterizan el producto, ni loidentifican como un nuevo elemento. Silicio se le dio su nombre actual en 1817 por el químico escocés Thomas Thomson. Él conservó parte del nombre de Davy, pero añadió "a la obra" porque creía que el silicio es un no metal parecido al boro y carbono. En 1823, Berzelius preparó silicio amorfo utilizando aproximadamente el mismo método que Gay-Lussac, pero purificando el producto a un polvo de colormarrón por lavado repetidamente. Como resultado, se suele dar crédito por el descubrimiento del elemento.
Silicio en su forma cristalina más común no estaba preparada hasta 31 años después, por Deville. Por electrólisis del cloruro de sodio y aluminio impuro que contiene aproximadamente 10% de silicio, que fue capaz de obtener una forma alotrópica ligeramente impuro de silicio en 1854. Más tarde, losmétodos más rentables se han desarrollado para aislar el silicio en varias formas alótropo, siendo el más reciente silicene.
Como el silicio es un elemento importante en los semiconductores y dispositivos de alta tecnología, en muchos lugares del mundo llevan su nombre. Por ejemplo, Silicon Valley en California, ya que es la base para una serie de la tecnología delas industrias conexas, lleva elnombre de silicio.
1.2. DATOS ESTADÍSTICOS DE PRODUCCIÓN MUNDIAL DEL MATERIAL
Por otra parte, la producción de arenas silíceas, en 1998 en escala mundial fue de 120.000.000 de t, la oferta está liderada por Estados Unidos (24 %), Holanda (23 %), Austria (5,4 %), Francia (5,4 %), Alemania (5,1 %) y más de 15 países que no superan el 3 % de participación cada uno. Las reservas de arena silícea,a escala mundial son suficientes para atender la demanda.
La República Argentina en 1994 alcanzó una producción de arenas silíceas de 9.500.000 toneladas anuales, que la ubicó en el tercer lugar de los países productores (Harben, 1994)
La producción de sílice cristalina es desarrollada exclusivamente en Estados Unidos, en 1995 la producción fue de 79.700 t, con un valor estimado de3.000.000 de dólares.
La producción de sílice fundida “cuarzo fundido”, está desarrollada principalmente por Estados Unidos, Alemania, Holanda y Reino Unido.
2. PROCESOS
2.1. DESCRIPCIÓN DEL PROCESO DE EXTRACCIÓN
Para obtener el silicio grado electrónico (Si ge) el polvo de silicio se introduce en un reactor de lecho fluido mezclado con ácido clorhídrico (CLH) y se calienta lamezcla a una temperatura aproximada de 300ºC, los gases son conducidos a unas columnas de destilación fraccionada donde se separan los distintos compuestos y se obtiene un gas llamado Triclorosilano que una vez enfriado pasa a fase liquida, este líquido mezclado con Hidrogeno se introduce en el reactor Siemens donde se encuentra una varilla de silicio ultra puro a modo de filamento que mediante...
1. INTRODUCCIÓN
El silicio es un elemento químico metaloide, número atómico 14 y situado en el grupo 14 de la tabla periódica de los elementos formado parte de la familia de los carbono ideos de símbolo Sí. Es el segundo elemento más abundante en la corteza terrestre (27,7 % en peso) después del oxígeno. Se presenta en forma amorfa ycristalizada; el primero es un polvo parduzco, más activo que la variante cristalina, que se presenta en octaedros de color azul grisáceo y brillo metálico.
1.1 RESEÑA HISTÓRICA SOBRE EL MATERIAL
HISTORIA
Se llamó la atención primero a la sílice como el posible óxido de un elemento químico fundamental de Antoine Lavoisier, en 1787. Después de un intento de aislar el silicio en 1808, Sir HumphryDavy propuso el nombre de "silicio" para el silicio, del latín silex, silicis de pedernal, pedernal, y añadiendo el "-io" acabar porque creía que era un metal. En 1811, se cree que Gay-Lussac y Thnard haber preparado silicio amorfo impuro, a través del calentamiento de potasio metálico aislado recientemente con tetrafluoruro de silicio, pero no se purifican y caracterizan el producto, ni loidentifican como un nuevo elemento. Silicio se le dio su nombre actual en 1817 por el químico escocés Thomas Thomson. Él conservó parte del nombre de Davy, pero añadió "a la obra" porque creía que el silicio es un no metal parecido al boro y carbono. En 1823, Berzelius preparó silicio amorfo utilizando aproximadamente el mismo método que Gay-Lussac, pero purificando el producto a un polvo de colormarrón por lavado repetidamente. Como resultado, se suele dar crédito por el descubrimiento del elemento.
Silicio en su forma cristalina más común no estaba preparada hasta 31 años después, por Deville. Por electrólisis del cloruro de sodio y aluminio impuro que contiene aproximadamente 10% de silicio, que fue capaz de obtener una forma alotrópica ligeramente impuro de silicio en 1854. Más tarde, losmétodos más rentables se han desarrollado para aislar el silicio en varias formas alótropo, siendo el más reciente silicene.
Como el silicio es un elemento importante en los semiconductores y dispositivos de alta tecnología, en muchos lugares del mundo llevan su nombre. Por ejemplo, Silicon Valley en California, ya que es la base para una serie de la tecnología delas industrias conexas, lleva elnombre de silicio.
1.2. DATOS ESTADÍSTICOS DE PRODUCCIÓN MUNDIAL DEL MATERIAL
Por otra parte, la producción de arenas silíceas, en 1998 en escala mundial fue de 120.000.000 de t, la oferta está liderada por Estados Unidos (24 %), Holanda (23 %), Austria (5,4 %), Francia (5,4 %), Alemania (5,1 %) y más de 15 países que no superan el 3 % de participación cada uno. Las reservas de arena silícea,a escala mundial son suficientes para atender la demanda.
La República Argentina en 1994 alcanzó una producción de arenas silíceas de 9.500.000 toneladas anuales, que la ubicó en el tercer lugar de los países productores (Harben, 1994)
La producción de sílice cristalina es desarrollada exclusivamente en Estados Unidos, en 1995 la producción fue de 79.700 t, con un valor estimado de3.000.000 de dólares.
La producción de sílice fundida “cuarzo fundido”, está desarrollada principalmente por Estados Unidos, Alemania, Holanda y Reino Unido.
2. PROCESOS
2.1. DESCRIPCIÓN DEL PROCESO DE EXTRACCIÓN
Para obtener el silicio grado electrónico (Si ge) el polvo de silicio se introduce en un reactor de lecho fluido mezclado con ácido clorhídrico (CLH) y se calienta lamezcla a una temperatura aproximada de 300ºC, los gases son conducidos a unas columnas de destilación fraccionada donde se separan los distintos compuestos y se obtiene un gas llamado Triclorosilano que una vez enfriado pasa a fase liquida, este líquido mezclado con Hidrogeno se introduce en el reactor Siemens donde se encuentra una varilla de silicio ultra puro a modo de filamento que mediante...
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