Antologias de quimica aplicada i

ANTOLOGÍAS

DE

QUÍMICA APLICADA

INDICE

Unidad 1

Estado Gaseoso.

1.1 Concepto de gas ideal y gas real.
1. Comportamiento de los gases ideales
2. Comportamiento de los gases reales

1.2 Teoría cinética de los gases
1. Ley de Graham
2. Principio de Avogadro
3. Ecuación de los gases ideales
4. Ejercicios de aplicación de laecuación general de los gases ideales
5. Ley de Dalton de las presiones parciales
6. Ejercicios de aplicación de la Ley de Dalton
7. Ley de Amagat
8. Ejercicios de aplicación de la Ley de Amagat

1.3 Ecuación de los gases reales
1. Ecuación de estado de los gases reales, ecuación de Van Der Waals
2. Ecuación de Berthelot
3. Factor decompresibilidad
4. Ejercicios de aplicación sobre ecuaciones que rigen los gases reales.

Unidad 2

Termodinámica Química.

2.1 Concepto de propiedades, sistemas y variables de sistema.
1. Clasificación de sistema: abierto, cerrado y aislado.
2. Definición de: límite, frontera y pared de un sistema.
3. Propiedades extensivas e intensivas
4. Variablesdependientes e independientes.

2.2 Primera Ley de la termodinámica.
1. Tipos de energía
2. Proceso reversible e irreversible
3. Trabajo en los proceso reversibles e irreversibles
4. Proceso isocórico.
5. Proceso isobárico.
6. Proceso isotérmico.
7. Proceso adiabático.
8. Capacidad calorífica a volumen y presión constante.

2.3 Segunda Ley de latermodinámica.
1. Cambio entrópico en los gases ideales.
2. Ejercicios de aplicación

Unidad 3

Estado Líquido.

3.1 Concepto de líquido
1. Propiedades generales de los líquidos
2. Punto crítico y equilibrio entre fases
3. Fuerzas de atracción molecular
4. Tensión superficial
5. Viscosidad

3.2 Influencia de la temperatura sobre la presión devapor
1. Punto de ebullición (problemas).
2. Presión de vapor
3. Factores que influyen sobre la presión de vapor
4. Determinación de la presión de vapor
5. Ecuación de Clausius-Clapeyron
6. Ejercicios de aplicación

Unidad 4

Aplicaciones de Procesos Tecnológicos.

4.1 Procesos de fabricación de circuitos impresos e integrados
1. Método fotográfico.2. Método serigráfico
3. Método directo

4.2 Generalidades en la fabricación de circuitos integrados (monolíticos y peliculares)

4.3 Procesos de fabricación de cerámicos
1. Procesos de fabricación de cerámica piezoeléctrica
2. Procesos de fabricación de cerámica ferro eléctrica

4.4 Desarrollo de nuevos materiales empleados en ingeniería
1. Aplicaciones en laingeniería

Unidad 5

Contaminación y Control de Residuos.

5.1 Contaminación ambiental
1. Fuentes de contaminación que deterioran el ambiente.
2. Beneficios y deterioro ambiental
3. Desechos tóxicos generados al ambiente
4. Alcances de toxicidad

5.2 Legislación ambiental
1. Regulación de sustancias de alto riesgo

5.3 Tratamiento de residuos1. Composteo
2. Pirolisis
3. Incineración
4. Filtración
5. Confinamiento
6. Procesos de reciclaje y control de residuos
7. Operaciones unitarias de separación

UNIDAD I
ESTADO GASEOSO

Vivimos en el fondo de un océano de aire cuya composición porcentual en volumen es aproximadamente 78% N2, 21% de O2, y 1% de otros gases incluyendo el CO2. Loselementos H, N, O, F, Cl, He, Ne, Ar, Kr, Xe, Rn, son gases en condiciones atmosféricas normales. Observe que el hidrógeno, el nitrógeno, el oxígeno el Flúor y el cloro existen como moléculas diatómicas gaseosas: H2, N2, O2, F2, y Cl2. Un alótropo del oxígeno, el ozono (O3), también es un gas a la temperatura ambiente. Todos los elementos de grupo 8A, gases nobles son gases monoatómicos: He, Ne, Ar,...