Elementos quimicos

Marco Antonio Wilhelm Vasquez
10mo C



Química




Miss Jennifer
Amoniaco

Formula Quimica: NH3
Aplicaciones:
Muchos propietarios de viviendas se ​​basan en fertilizantes comerciales que pueden contener toxinas y ser dañinos para el suelo sus jardines y las plantas en el largo plazo. Afortunadamente, sin embargo, el amoniaco es uno de los varios productos delimpieza domésticos que también pueden ser utilizados como fertilizante en el jardín. Esta solución de limpieza alcalina no es sólo económica sino que también ecológica.




Disulfuro de Carbono

Formula Quimica: CS2
Aplicaciones:
La mayor parte del sulfuro de carbono se emplea en la fabricación de fibras de celulosa. En presencia de sosa forma con la celulosa xantogenatos solubles quese pasan por inyectores y luego se precipitan.
Los xantogenatos de cobre se utilizan como plaguicidas.






Dioxido de Carbono

Formula química: CO2
Aplicaciones:
Es inocuo para el medio ambiente.
Resulta mucho más fácil de utilizar que los ácidos convencionales.
El proceso es más delicado con las pieles, mejorando la calidad del producto acabado, a la vez que reduce los costosoperacionales relativos a este proceso.







Oxido de Silicio

Formula Quimica: SiO2
Aplicaciones:
Gracias al desarrollo especial del dióxido de silicio hidrofóbico se han podido producir adhesivos estructurales que pertenecen a tecnologías avanzadas. Dichos adhesivos estructurales permitirán la unión de distintos materiales como el acero, el aluminio, el magnesio y el plástico.Numerosos procesos se pueden beneficiar con las ventajas técnicas y las mejoras que pueden llevarse a cabo con la adecuada selección de dióxidos que han sido especialmente desarrollados para la industria de adhesivos y selladores especiales. El dióxido de silicio no sólo mejora las propiedades mecánicas y reológicas, sino que también actúa como contraria a la solución de los agentes que mejoran laestabilidad de almacenamiento y procesamiento de los adhesivos y selladores.



Tricloruro de nitrogeno

Formula Quimica: NCl3
Aplicaciones:
El trifluoruro de nitrógeno se utiliza en el grabado de plasma de obleas de silicio. Se trabaja de manera preponderante en la limpieza de las cámaras de PECVD en la producción de alto volumen de pantallas de cristal líquido y de película delgada basadas encélulas solares de silicio. En estas aplicaciones el NF3 es inicialmente desglosado "in situ", por un plasma. El flúor que resulta átomos son los agentes activos de limpieza que atacan el polisilicio, nitruro de silicio y óxido de silicio. El trifluoruro de nitrógeno se puede utilizar también con siliciuro de tungsteno y tungsteno producido por enfermedades cardiovasculares.



Dioxido de AzufreFormula Quimica: SO2
Aplicaciones:
El dióxido de azufre tiene propiedades desinfectantes, por ello fue utilizado durante siglos en la desinfección por ejemplo de las cubas de vino quemando azufre en su interior. También se utiliza en la industria alimenticia como conservante y antioxidante (E220) generalmente de zumos, frutos secos, mermeladas, vino etc.






Trioxido de AzufreFormula Quimica: SO3
Aplicaciones:
Sulfonación de compuestos orgánicos, intermediario en la manufactura de ácido sulfúrico y explosivos.








Hexafluoruro de Azufre

Formula Quimica: F6S
Aplicaciones:
En generadoras eléctricas, como dieléctrico en Sistemas de Alto Voltaje
En talleres y metal-mecánica, como agente desgasificante de metales fundidos





Dioxido de CloroFormula química: O2Cl
Aplicaciones:
El Dióxido de cloro se utiliza principalmente como blanqueante. Además es un desinfectante muy efectivo a bajas concentraciones.









Trifluoruro de Cloro

Formula Quimica: F3Cl
Aplicaciones:
En la industria de los semiconductores, el trifluoruro de cloro se utiliza para limpiar cámaras de deposición química de vapor. Tiene la ventaja de...