Monitoreo corrosion

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Monitoreo de Procesos de Corrosión en Sistemas Electroquímicos mediante Interferometría de Michelson.

Mayorga Cruz Darwin1, Sarmiento Martinez Oscar1 , Márquez Aguilar Pedro A.1, UruchurtuChavarín Jorge1.
1Centro de Investigación en Ingeniería y Ciencias Aplicadas. Universidad Autónoma del Estado de Morelos. Av. Universidad 1001, Col. Chamilpa, CP 62210, Cuernavaca, Morelos.
E-mail autor1:juch25@uaem.mx
E-mail autor2: oscar@uaem..mx

Introducción.

En un estudio previo, se desarrollo un modelo matemático el cual, a partir de desplazamientos ortogonales que se dan en lasuperficie del metal durante la reacción anódica, se relaciona la perdida de la capa metálica o crecimiento de oxido de la muestra en estudio a partir de franjas de interferencia [1]. Durante el monitoreoóptico de procesos de corrosión localizada de muestras metálicas inmersas en sustancias acuosas tales como las salmueras, se observa inicialmente la formación de patrones de interferencia cuyo contrasteóptico se pierde con el paso del tiempo, para súbitamente reaparecer y con ello la aparición nuevamente de las franjas iniciales. Finalmente se analizan los datos correspondientes al comportamientoobservado en nuestro sistema electroquímico y se discute la posible influencia de ciertos procesos dinámicos no lineales.

metodología

La metodología consiste en utilizar simultáneamente el monitoreoóptico mediante un interferómetro de Michelson para la obtención de interferogramas y la obtención de curvas de polarización mediante técnicas electroquímicas. Los interferogramas son registrados entiempo real al mismo tiempo en que cada ciclo de polarización es registrado.

Los interferogramas son interpretados y relacionados con cada región de las curvas de polarización y usados parainterpretar el proceso de corrosión o ataque que tiene lugar en la frontera metal-liquido, mediante el registro de franjas de interferencia que aparecen durante el ciclo de polarización de las pruebas....
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