Muestreo

3-9
Diámetro de orificios | Radón Liberado % |
0.37 | 80 | 83 | 83 | 85 |
0.51 | 75 | 75 | 79 | 79 |
0.71 | 74 | 73 | 76 | 77 |
1.02 | 67 | 72 | 74 | 74 |
1.4 | 62 | 62 | 67 | 69 |
1.99| 60 | 61 | 64 | 66 |

Y (Respuesta) = Radón Liberado
A (Factor) = Diámetro de orificios

HO: Radón Liberado y Diámetro de orificios siguen una distribución normal
H1: Radón Liberado yDiámetro de orificios no siguen una distribución normal
P Value > 0.150 se acepta H0

ANOVA
ANOVA unidireccional: Radón Lierado % vs. Diámetro

Fuente GL SC MC F P
Diámetro5 1133.38 226.68 30.85 0.000
Error 18 132.25 7.35
Total 23 1265.63

S = 2.711 R-cuad. = 89.55% R-cuad.(ajustado) = 86.65%

ICs de 95%individuales para la media
basados en Desv.Est. agrupada
Nivel N Media Desv.Est. ----+---------+---------+---------+-----
0.37 4 82.750 2.062(---*---)
0.51 4 77.000 2.309 (---*---)
0.71 4 75.000 1.826 (---*---)
1.02 4 71.750 3.304 (----*---)
1.40 465.000 3.559 (---*---)
1.99 4 62.750 2.754 (---*---)
----+---------+---------+---------+-----
63.0
70.0 77.084.0

Desv.Est. agrupada = 2.711

Gráficas de residuos para Radón Lierado %

Ho: δ1/δ2=1
H1: δ1/δ2≠1
P value = 0
Se rechaza Ho, por lo tanto las varianzas son diferentes
Intervalos deconfianza

T de una muestra: Diámetro

H0: mu= 1.40
H1: mu ≠ 1.40

Prueba de mu = 1.4 vs. no = 1.4

Media del
ErrorVariable N Media Desv.Est. estándar IC de 95% T P
Diámetro 24 1.000 0.569 0.116 (0.760, 1.240) -3.44 0.002

3-15
Catalizador |
1 | 2 | 3 | 4 |
58.2 |...