Apuntes De Quimica

| Instituto Politécnico Nacional | | |
| Escuela Superior de Ingeniería Mecánica y Eléctrica
Unidad Profesional Azcapotzalco
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Química Aplicada
M. en I. Gerardo Aarón Maya Gómez
APUNTES



INDICE
ESTADO GASEOSO | * PAG. |
1.1. Concepto de gas ideal y gas real. | 4 |
1.1.1. Comportamiento de los gases ideales. | 4 |
1.1.2. Comportamientode los gases reales. | 4 |
1. 2.1. 2.2. Teoría cinética de los gases. | 6 |
1. 2.1. 2.2. 2.3.1. Ley de Graham. | 6 |
2.3.2. Principio de Avogadro. | 7 |
2.3.3. Ecuación de los gases ideales. | 8 |
2.3.4. Ejercicios de aplicación de la ecuación general de los gases ideales. | 8 |
2.3.5. Ley de Dalton de laspresiones parciales. | 11 |
2.3.6. Ejercicios de aplicación de la Ley de Dalton. | 12 |
2.3.7. Ley De Amagat. | 14 |
2.3.8. Ejercicios de aplicación de la Ley De Amagat. | 14 |
2.3. Ecuación de los gases reales. | 15 |
2.4.9. Ecuación de estado de los gases reales, ecuación de Van Der Waals. | 15 |
2.4.10. Ecuación de Berthelot. | 16 |2.4.11. Factor de compresibilidad. | 17 |
2.4.12. Ejercicios de aplicación sobre ecuaciones que rigen los gases reales. | 17 |
TERMODINAMICA QUIMICA | * |
1. 2. 3.1. Concepto de propiedades, sistemas y variables de sistema. | 18 |
1. |
2. |
3.1. |
3.2.1. Clasificación de sistema: abierto, cerrado y aislado. | 18 |3.2.2. Definición de: límite, frontera y pared de un sistema. | 19 |
3.2.3. Propiedades extensivas e intensivas. | 20 |
3.2.4. Variables dependientes e independientes. | 22 |
3.2. Primera Ley de la termodinámica. | 22 |
1. 2. 3.1. 3.2. 3.3.1. Tipos de Energía. | 22 |
3.3. |
3.4. |
3.3.2. Proceso reversible eirreversible. | 22 |
3.3.3. Trabajo en los procesos reversibles e irreversibles. | 23 |
3.3.4. Proceso Isocórico. | 23 |
3.3.5. Proceso Isobárico. | 23 |
3.3.6. Proceso Isotérmico. | 24 |
3.3.7. Proceso Adiabático | 25 |
3.3.8. Capacidad calorífica a volumen y presión constante. | 26 |
3.3. Segunda Ley de la termodinámica. | 27|
3.4.9. Cambio entrópico en los gases ideales. | 27 |
3.4.10. Ejercicios de aplicación. | 29 |
ESTADO LÍQUIDO | * |
1. 2. 3. 4.1. Concepto de Líquido. | 29 |
1. |
2. |
3. |
4.1. |
4.2.1. Propiedades generales de los líquidos. | 29 |
4.2.2. Punto crítico y equilibrio entre fases. | 31 |
4.2.3.Fuerzas de atracción molecular. | 43 |
4.2.4. Tensión Superficial. | 44 |
4.2.5. Viscosidad. | 44 |
4.2. Influencia de la temperatura sobre la presión de vapor. | 45 |
4.2. 4.3. 4.3.1. Punto de ebullición (problemas). | 45 |
4.3.2. Presión de Vapor. | 46 |
4.3.3. Factores que influyen sobre la presión de vapor. | 49 |4.3.4. Determinación de presión de vapor. | 49 |
4.3.5. Ecuación de Clausius-Clapeyron. | 50 |
4.3.6. Ejercicios de aplicación. | 50 |
APLICACIONES DE PROCESOS TECNOLÓGICOS | |
1. 2. 3. 4. 5.1. Procesos de fabricación de circuitos impresos e integrados. | 51 |
5.2.1. Método fotográfico. | 51 |
5.2.2. Método serigráfico | 53|
5.2.3. Método directo. | 55 |
5.2. Generalidades en la fabricación de circuitos integrados (monolíticos y peliculares). | 57 |
5.3. Procesos de fabricación de cerámicos. | 59 |
5.4.4. Procesos de fabricación de cerámica piezoeléctrica. | 59 |
5.4.5. Procesos de fabricación de cerámica ferroeléctrica. | 61 |
5.4. Desarrollo de nuevos...