ciencia

Estudio spectromicroscopy alta resolutionXPS de micro - patrón oro y estaño
superficies
Se presenta en la cartografía del estado químico de alta resolución realizadas con un laboratorio, spectroscopicX - ray
microscopio de emisión de fotoelectrones ( XPEEM ) en los patrones de oro , estaño y depositados electro ( 100 ? m × 20 ? m )
para aplicaciones de envasado de micro- sistemas . Seseleccionaron las condiciones de análisis para lograr un lateral
resolución por debajo del 1 ? m y una resolución de energía 0.8eV para Au4f
7/2 y Sn3d
5/2 para las imágenes adquiridas
más de 5 minutos . Los mapas del estado químico demuestre la no uniformidad de la química de oro / estaño sobre regiones
de anchura típica de menos de 10 ? m . Más precisamente , la coexistencia de Au y estados AuSn4y el
heterogeneidad de Sn oxidación se muestra . Los resultados ponen en evidencia el papel de la delaminación parcial de
el fotoresistente durante el oftin electro - deposición debido a las propiedades de adhesión degradados en el oro . estos
conclusiones aredrawnfromdirectinspectionofthe primas sets ImageData , andare apoyada por estadísticas
treatmentsusingPrincipalComponentAnalysis ( PCA) . Este isaclearexampleoftheinterestinusinghigh
resolutionXPS imagingbyXPEEMat apracticallevelinappliedsurface ciencia, andits complementariedad
a otras técnicas de formación de imágenes de superficie




SEM / EDX y estudios de XPS de niobio después de electropulido
Los estudios de niobio después de pulido electroquímico EP en una mezcla de ácido sulfúrico - metano eran
realizado . Lasuperficie NBox / Nb se estudió por SEM / EDX y métodos de XPS para averiguar la química
composición de las estructuras cubiertas por oxígeno . Específicamente los resultados XPS obtenidos después del tratamiento EP
indicar la parte predominante de oxígeno con óxidos de niobio en la superficie de la muestra . Con el fin de correctamente
interpretar estas estructuras de los espectros defotoelectrones de óxidos de niobio principales se analizaron , y el
espectros de interior Nb 3d y O 1s estados electrónicos y de valencia espectros banda se mide por ellos

Niobio ( Nb) se utiliza como biomaterial o el material actual
de elección para la fabricación de frecuencia de radio superconductor
( SRF ) aceleradores debido a sus excelentes propiedades superconductoras .
El rendimiento de losaceleradores es fuertemente dependiente de la
suavidad y limpieza de la superficie [1-6 ] . Esta superficie de acabado se obtiene generalmente por cualquiera de pulido químico tamponada ( BCP ) ,
electropulido (EP ) o tampón electrolítico (BEP ) [ 7-13 ] .
Otras aplicaciones niobio son los implantes médicos y dentales realizados
de niobio - aleaciones [ 4,8,14 ] . Específicamente , niobio yaleaciones de niobio
son hipoalergénicas , y son por lo general los metales más seguros tolerados por
el cuerpo humano .
En un electropulido convencional ( EP ) , un electrolito de ácido sulfúrico concentrado ( H2SO4 ) y HF se utiliza en combinación con un
tensión constante que tiene que ser ajustado con el cambio de temperatura del electrolito . Se cree que la ruptura de la
fuerte películapasiva sobre la superficie Nb sólo se puede lograr con
el uso de la IC. Eliminación de la IC , debido a su acción peligrosa , por
pulido electroquímico de Nb implantes es una necesidad importante
[ 7,11,15-19 ] . En nuestro trabajo , para el tratamiento electroquímico , una mezcla de dos ácidos sulfúrico , H2SO4 y metanosulfónico CH3SO3

2.1 . preparación de la muestra
Muestras de niobio comolaminados , de dimensiones
30 mm × 20 mm × 1,22 mm (Fig. 1 ) , pulido por el esmeril de SiC
papel de tamaño de grano 100 se utilizaron para los estudios . El patrón de la
muestra de niobio como es recibido inFig visibles . 1b . El objetivo de abrasivo
tratamiento fue para eliminar la capa de superficie pasiva de espesor , generalmente
pentóxido de niobio , después del laminado justo antes de...