elementos

Defecto sustitucional o Defecto puntual intersticial Se crea cuando un átomo idéntico a los puntos normales de red están en psición intersticial. Es probable encontrar este defecto en estructurascristalinas con bajo factor de empaquetamiento.
Defecto de Frenkel o Par de Frenkel es un par vacancia - intersticialidad que se forma cuando un ión salta de un punto normal de red a un sitiointersticial y deja atrás una vacancia. Este defecto se presenta tanto en materiales iónicos como covalentes.
Defecto de Schottky Es exclusivo de los materiales iónicos, y suele encontrarse en muchosmateriales cerámicos. En este defecto, las vacancias se presentan en un material con enlaces iónicos; donde debe faltar un número estequimétrico de aniones y cationes en cristal si se quiere conservaren el la neautralidad eléctrica. Defecto sustitucional o Defecto puntual intersticial Se crea cuando un átomo idéntico a los puntos normales de red están en psición intersticial. Es probable encontrareste defecto en estructuras cristalinas con bajo factor de empaquetamiento.
Defecto de Frenkel o Par de Frenkel es un par vacancia - intersticialidad que se forma cuando un ión salta de un puntonormal de red a un sitio intersticial y deja atrás una vacancia. Este defecto se presenta tanto en materiales iónicos como covalentes.
Defecto de Schottky Es exclusivo de los materiales iónicos, ysuele encontrarse en muchos materiales cerámicos. En este defecto, las vacancias se presentan en un material con enlaces iónicos; donde debe faltar un número estequimétrico de aniones y cationes encristal si se quiere conservar en el la neautralidad eléctrica. Defecto sustitucional o Defecto puntual intersticial Se crea cuando un átomo idéntico a los puntos normales de red están en psiciónintersticial. Es probable encontrar este defecto en estructuras cristalinas con bajo factor de empaquetamiento.
Defecto de Frenkel o Par de Frenkel es un par vacancia - intersticialidad que se forma...