flujo de fluidos

Ecuaciones diferenciales en derivadas parciales
El método sirve para encontrar soluciones parciales completas, no soluciones generales, dependientes de un conjunto numerable de constantesarbitrarias, lo cual permite resolver tanto problemas de valor inicial como problemas de frontera e incluso problemas que involucran condiciones de los dos tipos.
Ecuaciones diferenciales ordinarias
Para queuna ecuación admita ser resuelta mediante separación de variables debe cumplir algunos requisitos especiales de forma, por ejemplo una ecuación de la forma:
(*)
Admite separación de variables silas funciones  son productos de funciones que sólo contienen a una de las dos variables, es decir son de la forma:

En ese caso la solución general de la ecuación (*) es de la forma:

Difusión enestado sólido
En la fabricación actua circuitos integrados uno de los procesos es la difusión. Era una técnica muy empleada en los años 1970 para definir el tipo (N o P) de un semiconductor. Hoy en díatambién se usa aunque de forma diferente.
Consiste en la inserción de átomos dopantes dentro del semiconductor debido a la alta temperatura a que éste es sometido. Con ello se consigue un perfil enla concentración de dopantes que disminuye proporcionalmente.
El proceso consiste en introducir las obleas de semiconductor en un horno y dejar pasar a través de ellas un gas, el cual contiene lasimpurezas. La temperatura del microwave es de 800 a 1200ºC para el Si (Silicio) y de 600 a 1000ºC para el Gas (Arseniuro de galio).
Las impurezas que se emplean para el Si son:
P (Fósforo) y As(Arsénico) para crear semiconductores tipo N.
B (Boro) para semiconductores tipo P.
Hay dos tipos de difusión:
Por concentración constante en superficie: se mantiene constante la concentración deimpurezas en la superficie del semiconductor y desde ahí son difundidas al interior.
Por concentración constante total: se deposita la cantidad final de impurezas en la superficie de la oblea y desde ahí...