Manual De Limpieza Endulzamiento Lgn
Páginas: 16 (3986 palabras)
Publicado: 29 de septiembre de 2011
PQV-ZLGN2-TICM-04-070
PROCEDIMIENTO DE LIMPIEZA QUÍMICA
SISTEMA DE AMINA
PLANTA LGN II
INDICE
Sección Página
1. Objetivo 3
2. Alcance 3
3. Definiciones 4
4. Normas y Documentos Relacionados 5
5. Materiales y Equipos Utilizados 5
6. Responsabilidades 7
7. Riesgos Asociados 7
8. Preparativos 8
9. Procedimiento 10
10.PROCEDIMIENTO DE LIMPIEZA QUIMICA COLUMNA T-202 Y E-209 CONCLUIDO LOS TRABAJOS MECANICOS 17
11. FLUJOGRAMAS ANEXOS N° 1 Y N° 2
1. Objetivo
Este procedimiento describe los pasos a seguir para efectuar la limpieza química al sistema de amina que integran los equipos AC-203 ´S, T-201, F-205, V-207, T-202, E-209 y V-208 de la Planta de LGN II del complejo petroquímico de El Tablazo.2. Alcance
El trabajo consiste en realizar limpieza química para remover con seguridad sulfuro de hierro y adecuar el sistema a las labores posteriores de mantenimiento; el trabajo contempla dos Fases:
La primera Fase: limpieza química integrada por los equipos AC-203´S, T-201, F-205, V-207, T-202, E-209 y V-208 y consiste en remoción de orgánicos, remoción de hierro y neutralización ypasivación.
La segunda Fase: estará integrada por los equipos T-202 y E-209 A/B y consiste en preparar la superficie metálica después de la instalación de platos de la columna T-202 y de los nuevos haces tubulares E-209 A/B, para lo cual se requiere remover partículas de hierro, escorias de soldaduras y pasivar la superficie metálica.
Como complemento a la limpieza química y como medidapreventiva y de seguridad durante la etapa Remoción de Hierro, el ácido al reaccionar con el Sulfuro de hierro (FeS) genera H2S producto de la reacción química. Los gases de H2S (sulfuro de hidrogeno) que tienen salida por los topes de las columnas T201 y T202 deben neutralizarse; para ello los equipos integrados a las columnas V-251 y V-209 deben ser utilizados como despojadores para secuestrar elH2S, e instalarse otro sistema de bombeo adicional provisto de un tanque donde se adicionara el secuestrante de H2S.
Ver flujograma de limpieza en anexo N° 1.
3. Definiciones
1. Limpieza química: Tipo de limpieza que se efectúa para adecuar el sistema para minimizar riesgos, remover depósitos indeseables de sulfuro de hierro y depósitos de corrosión.
3.2. Bomba deCirculación: Bomba suplida por el contratista a la capacidad adecuada para circular la solución de limpieza química por el sistema.
3.3. Frac Tank: Tanques Metálicos de 70 M3 de capacidad mínimo usados para preparar y Recircular la solución de limpieza.
4. Extractante de orgánico (ELQ-3000V): Compuestos químicos formulado por la empresa Electroquímica que tienen como propiedad realizar laremoción de orgánicos, remoción de sulfuro de hierro y pasivación en forma continua, aplicando productos químicos y ajustando el pH, sin necesidad de interrumpir las etapas.
5. Secuestrador de H2S ELQ 54GO: Compuesto químico utilizado para secuestrar H2S durante la etapa remoción de Sulfuro de Hierro.
6. Manguera de carga: Mangueras de 4”, 6” y 8” de diámetros con extremos bridadospara servicios de hidrocarburos (150 psig rating).
7. Múltiples de descarga y succión de 8” y 6” de diámetros provistas de válvulas.
8. Sistema para eliminar H2S: Compuesto por bamba y tanque utilizado para secuestrar y eliminar los gases de H2S que se genera durante la Remoción de hierro.
4. Normas y Documentos Relacionados
Los procedimientos relacionados y losdocumentos de referencia utilizados en el desarrollo de este procedimiento son:
4.1. Procedimiento limpieza química elaborado por Pequiven y Electroquímica.
2. Manual de Limpieza Química de Equipos Ingeniería de Instalaciones.
3. Industrial Chemical Cleaning de James W. McCoy.
4. NACE MR0175 Sulfide Stress Cracking Resistam Metallic Material for Oil field Equipment....
PROCEDIMIENTO DE LIMPIEZA QUÍMICA
SISTEMA DE AMINA
PLANTA LGN II
INDICE
Sección Página
1. Objetivo 3
2. Alcance 3
3. Definiciones 4
4. Normas y Documentos Relacionados 5
5. Materiales y Equipos Utilizados 5
6. Responsabilidades 7
7. Riesgos Asociados 7
8. Preparativos 8
9. Procedimiento 10
10.PROCEDIMIENTO DE LIMPIEZA QUIMICA COLUMNA T-202 Y E-209 CONCLUIDO LOS TRABAJOS MECANICOS 17
11. FLUJOGRAMAS ANEXOS N° 1 Y N° 2
1. Objetivo
Este procedimiento describe los pasos a seguir para efectuar la limpieza química al sistema de amina que integran los equipos AC-203 ´S, T-201, F-205, V-207, T-202, E-209 y V-208 de la Planta de LGN II del complejo petroquímico de El Tablazo.2. Alcance
El trabajo consiste en realizar limpieza química para remover con seguridad sulfuro de hierro y adecuar el sistema a las labores posteriores de mantenimiento; el trabajo contempla dos Fases:
La primera Fase: limpieza química integrada por los equipos AC-203´S, T-201, F-205, V-207, T-202, E-209 y V-208 y consiste en remoción de orgánicos, remoción de hierro y neutralización ypasivación.
La segunda Fase: estará integrada por los equipos T-202 y E-209 A/B y consiste en preparar la superficie metálica después de la instalación de platos de la columna T-202 y de los nuevos haces tubulares E-209 A/B, para lo cual se requiere remover partículas de hierro, escorias de soldaduras y pasivar la superficie metálica.
Como complemento a la limpieza química y como medidapreventiva y de seguridad durante la etapa Remoción de Hierro, el ácido al reaccionar con el Sulfuro de hierro (FeS) genera H2S producto de la reacción química. Los gases de H2S (sulfuro de hidrogeno) que tienen salida por los topes de las columnas T201 y T202 deben neutralizarse; para ello los equipos integrados a las columnas V-251 y V-209 deben ser utilizados como despojadores para secuestrar elH2S, e instalarse otro sistema de bombeo adicional provisto de un tanque donde se adicionara el secuestrante de H2S.
Ver flujograma de limpieza en anexo N° 1.
3. Definiciones
1. Limpieza química: Tipo de limpieza que se efectúa para adecuar el sistema para minimizar riesgos, remover depósitos indeseables de sulfuro de hierro y depósitos de corrosión.
3.2. Bomba deCirculación: Bomba suplida por el contratista a la capacidad adecuada para circular la solución de limpieza química por el sistema.
3.3. Frac Tank: Tanques Metálicos de 70 M3 de capacidad mínimo usados para preparar y Recircular la solución de limpieza.
4. Extractante de orgánico (ELQ-3000V): Compuestos químicos formulado por la empresa Electroquímica que tienen como propiedad realizar laremoción de orgánicos, remoción de sulfuro de hierro y pasivación en forma continua, aplicando productos químicos y ajustando el pH, sin necesidad de interrumpir las etapas.
5. Secuestrador de H2S ELQ 54GO: Compuesto químico utilizado para secuestrar H2S durante la etapa remoción de Sulfuro de Hierro.
6. Manguera de carga: Mangueras de 4”, 6” y 8” de diámetros con extremos bridadospara servicios de hidrocarburos (150 psig rating).
7. Múltiples de descarga y succión de 8” y 6” de diámetros provistas de válvulas.
8. Sistema para eliminar H2S: Compuesto por bamba y tanque utilizado para secuestrar y eliminar los gases de H2S que se genera durante la Remoción de hierro.
4. Normas y Documentos Relacionados
Los procedimientos relacionados y losdocumentos de referencia utilizados en el desarrollo de este procedimiento son:
4.1. Procedimiento limpieza química elaborado por Pequiven y Electroquímica.
2. Manual de Limpieza Química de Equipos Ingeniería de Instalaciones.
3. Industrial Chemical Cleaning de James W. McCoy.
4. NACE MR0175 Sulfide Stress Cracking Resistam Metallic Material for Oil field Equipment....
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