Valle Del Silicio
Páginas: 2 (340 palabras)
Publicado: 26 de julio de 2012
Cristian David Dallos Loaiza
Código: 811512
Circuitos Y Dispositivos I
Ingeniería Electrónica
Universidad Nacional De Colombia
El valle del silicio y el avance en la fotolitografíaActualmente, los avances en la electrónica no solamente han evolucionado en la creación de microchips sino, también en la forma como se organizan las industrias que los fabrican, como en el caso del‘‘valle del silicio’’ termino impuesto a la bahía de San Francisco en 1971, a razón de que allí se mejoro el transistor con las llamadas obleas de silicio y también se dieron los primeros avances en laaplicación de la fotolitografía ; en esta bahía también se sitúan las industrias tecnológicas mas reconocidas del mundo como Hewlett Packard, Intel, AMD entre otros.
Para comenzar debemosdefinir que es fotolitografía, es un proceso empleado en la fabricación de dispositivos semiconductores o circuitos integrados. El proceso consiste en transferir un molde desde una foto máscara a lasuperficie de una oblea de silicio, (también denominada "micro litografía" o "nano litografía" este proceso se trabaja de manera similar a la litografía, que en palabras coloquiales vendría siendo unaespecie de dibujo se imprime
sobre las obleas de silicio.
Desde la aplicación de la fotolitografía en la tecnología de los circuitos integrados han surgido grandes avances como los de incluirmuchísimos transistores en espacios muy pequeños a niveles manométricos, estos diseños no solo hacen que se reduzcan los tamaños de los circuitos integrados, microprocesadores entre muchos otrosdispositivos, sino que permite ofrecer alto desempeño, además que brinda un consumo eficiente de energía llevando así a pasar de las grandes escalas a las escalas mínimas dando así un gran salto en latecnología y creando un “boom” en la micro –electrónica permitiendo creación de dispositivos cada vez mas pequeños y con mayor facilidad de adquisición.
En conclusión, el avance...
Código: 811512
Circuitos Y Dispositivos I
Ingeniería Electrónica
Universidad Nacional De Colombia
El valle del silicio y el avance en la fotolitografíaActualmente, los avances en la electrónica no solamente han evolucionado en la creación de microchips sino, también en la forma como se organizan las industrias que los fabrican, como en el caso del‘‘valle del silicio’’ termino impuesto a la bahía de San Francisco en 1971, a razón de que allí se mejoro el transistor con las llamadas obleas de silicio y también se dieron los primeros avances en laaplicación de la fotolitografía ; en esta bahía también se sitúan las industrias tecnológicas mas reconocidas del mundo como Hewlett Packard, Intel, AMD entre otros.
Para comenzar debemosdefinir que es fotolitografía, es un proceso empleado en la fabricación de dispositivos semiconductores o circuitos integrados. El proceso consiste en transferir un molde desde una foto máscara a lasuperficie de una oblea de silicio, (también denominada "micro litografía" o "nano litografía" este proceso se trabaja de manera similar a la litografía, que en palabras coloquiales vendría siendo unaespecie de dibujo se imprime
sobre las obleas de silicio.
Desde la aplicación de la fotolitografía en la tecnología de los circuitos integrados han surgido grandes avances como los de incluirmuchísimos transistores en espacios muy pequeños a niveles manométricos, estos diseños no solo hacen que se reduzcan los tamaños de los circuitos integrados, microprocesadores entre muchos otrosdispositivos, sino que permite ofrecer alto desempeño, además que brinda un consumo eficiente de energía llevando así a pasar de las grandes escalas a las escalas mínimas dando así un gran salto en latecnología y creando un “boom” en la micro –electrónica permitiendo creación de dispositivos cada vez mas pequeños y con mayor facilidad de adquisición.
En conclusión, el avance...
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