Laboratorio electrodepositacion de cobre

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Informe laboratorio Electro-depositación de Cobre: “Influencia de la corriente eléctrica en la cantidad de cobre depositado por electrólisis”

Nombre: Curso: Profesora guía:

María José Valdés Biología - NS Iris Rodríguez

Septiembre 2010

Informe laboratorio IB Química – Electro-depositación de Cobre – María José Valdés Zapico

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Índice
1. Introducción 2. Objetivo, alcance,preguntas e hipótesis 2.1. Objetivo 2.2. Alcance 2.3. Planteamiento de hipótesis 2.4. Preguntas a desarrollar 3. Diseño del laboratorio 3.1. Definición del problema 3.2. Fundamento teórico 3.3. Selección de variables 3.4. Control de variables 4. Desarrollo método de obtención de datos 4.1. Materiales y equipos 4.2. Metodología y procedimiento de trabajo 4.2.1. Planificación del laboratorio 4.2.2.Evaluación de riesgos 4.2.3. Construcción y montaje 4.2.4. Calibración y ajustes 4.2.5. Realización de ensayos 5. Obtención de datos 5.1. Obtención de datos brutos cuantitativos 5.2. Obtención de datos brutos cualitativos 6. Procesamiento de datos 7. Presentación de datos procesados 8. Conclusión y evaluación 8.1. Formulación de conclusiones 8.2. Evaluación de los procedimientos 8.3. Mejora de lainvestigación 9. Bibliografía Anexo

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1. Introducción
En el marco de la investigación para generar valor agregado a los productos de cobre, como también para el reciclaje de éste, surge la idea de producir lámina decobre delgada, para aplicación en la industria electrónica, conocida como “Papel de Cobre o Copperfoil”. El papel de cobre se produce por electro-depositación, que corresponde a un proceso electrolítico, similar al utilizado en la generación de cátodos de cobre en la industria minera (Electrowinning). Las dos principales diferencias entre los procesos señalados, son: El cátodo debe permitir laproducción de una lámina continua, muy larga y delgada, capaz de ser enrollada en bobinas, según se muestra en la figura N°1. La densidad de corriente por superficie de cátodo (amperes por metro cuadrado) en el proceso del Copperfoil, es de 10 a 20 veces mayor con respecto a los procesos de Electrowining en minería, los cuales utilizan densidades de corriente del orden de 250 (A/m2). Éste informede laboratorio muestra el resultado de la influencia de la corriente eléctrica continua, en la depositación de cobre electrolítico, a elevada densidad de corriente por placa catódica, es decir, entre 1.500 y 2.500 (A/m2).

2. Objetivo, alcance e hipótesis. 2.1. Objetivo:
El objetivo del laboratorio es determinar cuantitativamente el impacto que produce el flujo de corriente eléctrica, en laproducción de cobre electrolítico, con alta densidad de corriente, es decir, sobre 1.500 (A/m2). 2.2. Alcance: El alcance es diseñar un experimento que permita investigar la velocidad de electro-depositación de cobre, en función del flujo de corriente eléctrica como variable independiente, manteniendo constantes todas las demás variables.

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2.3. Planteamiento de hipótesis:

Primero: Si el proceso electrolítico de depositación de cobre requiere corriente eléctrica continua, entonces la velocidad de depositación de masa de cobre, variará directamente proporcional con el flujo de corriente aplicado al proceso electrolítico. 2.4. Preguntas a desarrollar: ¿Qué sucederá con la masa de cobreelectro-depositado si varío la corriente eléctrica del proceso?

¿Puedo mantener controladas todas las demás variables de proceso, al variar sólo la corriente eléctrica?

3. Diseño del laboratorio
3.1. Definición del problema: Se requiere obtener evidencia cuantitativa para validar o rechazar la hipótesis, específicamente información que relaciones el flujo de corriente, con la masa de cobre...
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